主页 > 型号大全 > 正文

椭偏仪型号(椭偏仪m2000)

2024-04-13 17:22:01 来源:阿帮个性网 点击:
文章目录导航:
  1. mse椭偏仪
  2. 椭偏仪作用
  3. 椭偏仪厂家有哪些
  4. 椭偏仪说明书
  5. 椭偏仪m2000
  6. 椭偏仪结构
  7. 椭偏仪使用说明书
  8. 椭偏仪原理
  9. 椭偏仪校准
  10. 椭偏仪工作原理

mse椭偏仪

椭偏仪的测试原理是通过测试样品对光的偏振态的变化,得到样品的物理性质,比如薄膜厚度,折射率及消光系数等。那么在椭偏仪的使用过程中,如何保证测试结果的准确可靠,就首先需要了解椭偏仪光路中的光学元件的校准原理。

点击上方“瑟米莱伯”,并回复“SE2000”,了解更多!

▲SE-2000光谱型椭偏仪

SemilabSE-2000是一款光谱型椭偏仪,适用于表征或监控透明和半透明薄膜的光学厚度和光学特性(折射率和消光系数)等。其针对多层薄膜的结构测试有特别的设计。

椭偏仪作用

椭圆偏振光法测定介质薄膜的厚度和折射率在现代科学技术中,薄膜有着广泛的应用。因此测量薄膜的技术也有了很大的发展,椭偏法就是70年代以来随着电子计算机的广泛应用而发展起来的目前已有的测量薄膜的最精确的方法之一。椭偏法测量具有如下特点:能测量很薄的膜(1nm),且精度很高,比干涉法高1-2个数量级。是一种无损测量,不必特别制备样品,也不损坏样品,比其它精密方法:如称重法、定量化学分析法简便。可同时测量膜的厚度、折射率以及吸收系数。因此可以作为分析工具使用。对一些表面结构、表面过程和表面反应相当敏感。是研究表面物理的一种方法椭偏仪的光路图椭偏仪的基本原理入射光的P分量入射光的S分量反射光的P分量和S分量的比值—椭圆参量r=RP/Rs=tanyexp(iD)=f(n1,n2,n3,f1,d,l)

椭偏仪厂家有哪些

【这里有详细资料,希望对你有帮助。】

椭偏仪应用

光谱型椭偏仪是一种用于探测波膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量设备。由于与样品非接触,对样品没有破坏且不需要真空,使得椭偏仪成为一种极具吸引力的测量设备。

椭偏仪可测的材料包括:

半导体、电介质、聚合物、有机物、金属、多层膜物质…

涉及领域有:

半导体、通讯、数据存储、光学镀膜、平板显示器、科研、生物、医*…

发展历史

早期的研究主要集中于偏振光及偏振光与材料相互作用的物理学研究以及仪器的光学研究。计算机的发展使椭偏仪在更多的领域得到应用。硬件的自动化和软件的成熟大大提高了运算的速度,成熟的软件提供了解决问题的新方法,因此,椭偏仪现在已被广泛应用于研究、开发和制造过程中。

光谱范围

早些年,椭偏仪的工作波长为单波长或少数独立的波长,最典型的是采用激光或对电弧等强光谱光进行滤光产生的单色光源。现在大多数的椭偏仪在很宽的波长范围内以多波长工作(通常有几百个波长,接近连续)。和单波长的椭偏仪相比,多波长光谱椭偏仪有下面的优点:可以提升多层探测能力,可以测试物质对不同波长光波的折射率等。

椭偏仪的光谱范围在深紫外的142nm到红外33µm可选。光谱范围的选择取决于被测材料的属性、薄膜厚度及关心的光谱段等因素。例如,掺杂浓度对材料红外光学属性有很大的影响,因此需要能测量红外波段的椭偏仪;薄膜的厚度测量需要光能穿透这薄膜,到达基底,然后并被探测器检测到,因此需要选用该待测材料透明或部分透明的光谱段;对于厚的薄膜选取长波长更有利于测量。

椭偏仪如何工作?

下图给出了椭偏仪的基本光学物理结构。已知入射光的偏振态,偏振光在样品表面被反射,测量得到反射光偏振态(幅度和相位),计算或拟合出材料的属性。

入射光束(线偏振光)的电场可以在两个垂直平面上分解为矢量元。P平面包含入射光和出射光,s平面则是与这个平面垂直。类似的,反射光或透射光是典型的椭圆偏振光,因此仪器被称为椭偏仪。关于偏振光的详细描述可以参考其他文献。在物理学上,偏振态的变化可以用复数ρ来表示:

其中,ψ和∆分别描述振幅和相位。P平面和s平面上的Fresnel反射系数分别用复函数rp和rs来表示。rp和rs的数学表达式可以用Maxwell方程在不同材料边界上的电磁辐射推到得到。

其中ϕ0是入射角,ϕ1是折射角。入射角为入射光束和待研究表面法线的夹角。通常椭偏仪的入射角范围是45°到90°。这样在探测材料属性时可以提供最佳的灵敏度。每层介质的折射率可以用下面的复函数表示

通常n称为折射率,k称为消光系数。这两个系数用来描述入射光如何与材料相互作用。它们被称为光学常数。实际上,尽管这个值是随着波长、温度等参数变化而变化的。当代测样品周围介质是空气或真空的时候,N0的值通常取1.000。

通常椭偏仪测量作为波长和入射角函数的ρ的值(经常以ψ和∆或相关的量表示)。一次测量完成以后,所得的数据用来分析得到光学常数,膜层厚度,以及其他感兴趣的参数值。如下图所示,分析的过程包含很多步骤。

可以用一个模型(model)来描述测量的样品,这个模型包含了每个材料的多个平面,包括基底。在测量的光谱范围内,用厚度和光学常数(n和k)来描述每一个层,对未知的参数先做一个初始假定。最简单的模型是一个均匀的大块固体,表面没有粗糙和氧化。这种情况下,折射率的复函数直接表示为:

但实际应用中大多数材料都是粗糙或有氧化的表面,因此上述函数式常常不能应用。

图中的下一步,利用模型来生成Gen.Data,由模型确定的参数生成Psi和Detla数据,并与测量得到的数据进行比较,不断修正模型中的参数使得生成的数据与测量得到的数据尽量一致。即使在一个大的基底上只有一层薄膜,理论上对这个模型的代数方程描述也是非常复杂的。因此通常不能对光学常数、厚度等给出类似上面方程一样的数学描述,这样的问题,通常被称作是反演问题。

最通常的解决椭偏仪反演问题的方法就是在衰减分析中,应用Levenberg-Marquardt算法。利用比较方程,将实验所得到的数据和模型生成的数据比较。通常,定义均方误差为:

在有些情况下,最小的MSE可能产生非物理或非唯一的结果。但是加入符合物理定律的限制或判断后,还是可以得到很好的结果。衰减分析已经在椭偏仪分析中收到成功的应用,结果是可信的、符合物理定律的、精确可靠。

仪器构造

在光谱椭偏仪的测量中使用不同的硬件配置,但每种配置都必须能产生已知偏振态的光束。测量由被测样品反射后光的偏振态。这要求仪器能够量化偏振态的变化量ρ。

有些仪器测量ρ是通过旋转确定初始偏振光状态的偏振片(称为起偏器)。再利用第二个固定位置的偏振片(称为检偏器)来测得输出光束的偏振态。另外一些仪器是固定起偏器和检偏器,而在中间部分调制偏振光的状态,如利用声光晶体等,最终得到输出光束的偏振态。这些不同的配置的最终结果都是测量作为波长和入射角复函数ρ。

在选则合适的椭偏仪的时候,光谱范围和测量速度也是一个通常需要考虑的重要因素。可选的光谱范围从深紫外的142nm到红外的33µm。光谱范围的选择通常由应用决定。不同的光谱范围能够提供关于材料的不同信息,合适的仪器必须和所要测量的光谱范围匹配。

测量速度通常由所选择的分光仪器(用来分开波长)来决定。单色仪用来选择单一的、窄带的波长,通过移动单色仪内的光学设备(一般由计算机控制),单色仪可以选择感兴趣的波长。这种方式波长比较准确,但速度比较慢,因为每次只能测试一个波长。如果单色仪放置在样品前,有一个优点是明显减少了到达样品的入射光的量(避免了感光材料的改变)。另外一种测量的方式是同时测量整个光谱范围,将复合光束的波长展开,利用探测器阵列来检测各个不同的波长信号。在需要快速测量的时候,通常是用这种方式。傅立叶变换分光计也能同时测量整个光谱,但通常只需一个探测器,而不用阵列,这种方法在红外光谱范围应用最为广泛。

椭偏仪说明书

椭圆偏振仪测量薄膜厚度和折射率椭偏法测量的基本思路是,起偏器产生的线根据仪器分析中的方程求解就可以的撒。

椭偏仪m2000

最初,椭偏仪的工作波长多为单一波长或少数独立的波长,最典型的是采用激光或对电弧等强光谱光进行滤光产生的单色光源。现在大多数的椭偏仪在很宽的波长范围内以多波长工作(通常有几百个波长,接近连续)。和单波长的椭偏仪相比,光谱型椭偏仪有下面的优点:可以提升裤尘多层探测能力,可以测试物质对不同波长光波的折射率等。椭偏仪的搭睁光谱范围在深紫外的142nm到红外33um可选。光谱范围的选择取决于被测材料的属性、薄膜厚度及关心的光谱段等因素。例如,掺杂浓度对材料红外光学属性有很大的影响,因此需要能测量红外波段胡枝禅的椭偏仪;薄膜的厚度测量需要光能穿透这薄膜,到达基底,然后并被探测器检测到,因此需要选用该待测材料透明或部分透明的光谱段;对于厚的薄膜选取长波长更有利于测量。

椭偏仪结构

优质

Horiba椭偏仪是由日本Horiba公司生产的,该公司成立于1945年,是一家专业从事科学仪器、测试和分析设备的制造商。Horiba椭偏仪是一种用于分析材料光学性质的高精度仪器,广泛应用于材料科学、生物医学、化学和物理学等领域。Horiba公司在椭偏仪领域拥有丰富的技术积累和经验,其产品性能稳定可靠,被广大用户认可。

椭偏仪使用说明书

椭偏仪全自动光谱椭偏仪成像椭偏仪(成像椭圆偏振技术)激光单波长椭偏仪……

椭偏仪原理

1887年,Drudediyi次提出椭偏理论,并建立了diyi套实验装置,成功地测量了18种金属的光学常数。1945年,Rothendiyi次提出了“Ellipsometer”(椭偏仪)一词。之后,椭偏仪有了长足发展,已被广泛应用于薄膜测量领域。

椭偏仪校准

    产品名称:一键式全自动快速椭偏仪

    产地:法国

    型号:AutoSE

典型用户:

AutoSE是一种新型薄膜测量工具。仅需简单的几个按钮,几秒钟内即可自动完成样品测量和分析,并提供完整的薄膜特性分析报告,包括薄膜厚度、光学常数、表面粗糙度和薄膜的不均匀性、反射率或透过率。

有机电子材料

薄膜厚度、光学常数表征

膜层各向异性分析

合金组分分析

光学带隙表征

光刻胶、高分子材料分析

完全自动化设计、一键式操作、直接报告输出

液晶调制技术,测量光路中无运动部件

CCD探测系统,快速全谱输出

多个微光斑尺寸选择、专利可视技术

固定70°入射角、封闭式样品仓

光谱范围:450nm~1000nm

小小的薄膜居然在太空望远镜上这么重要?|前沿应用

一键操作,全自动分析——显示面板多维度薄膜分析|前沿应用

多维度半导体薄膜材料分析——椭圆偏振光谱表征方案|光谱技术头条

关于我们

椭偏仪工作原理

大概要什么价位的呢,家用的话美国岱宇挺不错的,上次在力动康体买力一台,家人都说可以!